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肇庆市高能达化工有限公司
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名称:四氟化碳      型号:

CF4四氟化碳

简介

  四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于四氟化碳的化学稳定性,四氟化碳可用于金属冶炼,例如:铜、不锈钢,碳钢、铝、蒙乃尔等;还可用于塑料行业;如:合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。

 

应用

  以纯四氟甲烷或者和氧气混合的方式,用于在CVD过程之前,对二氧化硅、氮化硅、多晶硅和一些硅金属化合物进行的等离子刻蚀。

 

四氟化碳用途

  四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。对于硅和二氧化硅体系,采用CF4-H2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,可以获得451的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。

在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。

由于化学稳定性极强,CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。

四氟化碳的溶氧性很好,因此被科学家用于超深度潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的深度内,小白鼠仍可安全脱险。

 

注意事项

  四氟化碳是不燃性压缩气体。储存于阴凉、通风仓间内。仓内温度不宜超过60℃。远离火种、热源。防止阳光直射。应与易燃或可燃物分开存放。验收时要注意品名,注意验瓶日期,先进仓的先发用。搬运四氟化碳时轻装轻卸,防止钢瓶及附件破损。泄漏时,应迅速撤离泄漏污染区人员至上风处,并进行隔离,严格限制出入。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器,穿一般作业工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风,加速扩散。如有可能,即时使用。漏气容器要妥善处理,修复、检验后再用。

 

 商品详细介绍

 

 

 A colorless,nonflammable,high pressure gas.(一种无色不燃高压气体)

 Formula(分子式):

CF4

 

 Molecular weight(分子量):

88

 

 Boiling point(沸点):

-78.2℃

-108.76°F

 Melting point(熔点):

-100.7℃

-149.26°F

 Vapor pressure(蒸汽压):

13.8MPa(21.1℃)

2000Psia(70°F)

 Specific volume(比容):

0.27m3/kg(21.1℃,101.325KPa) 

4.4ft3/lb(70°F,14.696psia)

 UN Number(UN号码):

UN1982

 

 DOT Classification(DOT类别):

2.2(Nonflammable Gas)(不燃性气体)

 DOT Lable(DOT标签):

NON-FLAMMABLE GAS(不燃性气体)

 Grsde(级别):

5N

 

 Purity(纯度):

99.999%

 

 

 纯度

 

 Impurity(非组分):

Specification(标准)

 Oxygen(氧):

≤2.0  ppmv

 Nitrogen(氮):

≤5.0  ppmv

 Carbon Dioxide(二氧化碳):

≤0.5 ppmv

 Carbon Monoxide(一氧化碳):

≤0.5 ppmv

 Other Organics(其他有机物):

≤0.1 ppmv

 Water(水):

≤1.5 ppmv

 Acidity as HF(酸化物,如氟化氢):

≤1.0 ppmv

 

 包装

容积

重量

连接阀门

 小钢瓶

44L 47L

31Kg

CGA580 CGA320 DISS716 QF-011

 

 

应用:以纯四氟甲烷或者和氧气混合的方式,用于在CVD过程之前,对二氧化硅、氮化硅、多晶硅和一些硅金属化合物进行的等离子刻蚀。

  

 

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